HMDS真空幹燥箱 半導體/電子多領域預處理工藝解決方案
2025-05-15 | 文章來源： | 點擊率： HMDS真空幹燥箱是（shì）一種專門（mén）用於半導體（tǐ）製造（zào）和微電子工藝中處理（Hexamethyldisilazane, HMDS）的專用設備，結合了真空環境與準確溫控，主要用於增強光刻膠與矽片（或其他基（jī）材）之（zhī）間的（de）附著力，是光刻工藝中的關鍵步驟之一。HMDS的（de）作用與工（gōng）藝背景
HMDS是一種矽烷化試劑，通（tōng）過化學鍵合在矽（guī）片表麵（miàn）形成疏水層，減（jiǎn）少光刻膠與基材間的界麵張力，從而提升光刻膠的附著力，避免圖形脫落或（huò）缺陷。
工藝步驟：
塗覆HMDS：在矽片表（biǎo）麵（miàn）均（jun1）勻旋塗HMDS溶液。
預（yù）烘（Soft Bake）：通過真（zhēn）空幹燥箱去（qù）除（chú）溶劑（jì）並完成矽（guī）烷化反應。
光刻膠（jiāo）塗覆：隨後進（jìn）行光刻（kè）膠塗布和曝光顯影。
HMDS真空幹（gàn）燥箱的核心設計
真空係統（tǒng）
快速抽（chōu）真空，加速（sù）HMDS溶劑的揮發，避免殘留氣泡或汙染。
溫控係統
準確控溫，確保HMDS在矽片表麵充分反應，形成均勻（yún）的疏水層。
耐腐蝕腔體（tǐ）
內膽采用不鏽鋼或特（tè）氟（fú）龍塗層（céng），抵抗HMDS的化學腐蝕性。
氣（qì）體管理
配備廢氣回收裝置（如活（huó）性炭吸附或冷凝係統（tǒng）），處理揮發的有機溶劑（如HMDS、IPA等）。
安全防護
防爆設計（HMDS易燃），真空泄（xiè）漏報警、過溫保護等。
典型（xíng）應用場景
半導（dǎo）體製造
矽片（piàn）、GaAs晶圓等基材的HMDS預處理，提升光刻膠（jiāo）附著力。
微電子封裝（zhuāng）
MEMS器件（jiàn）、傳感器表麵的光刻圖形化處理。
先進封裝
3D IC、TSV（矽（guī）通孔）工（gōng）藝中的基（jī）板處理。
科研領域
新型光刻（kè）膠或納米材料表麵改性研究。
一恒HMDS真空幹燥箱可用於半導（dǎo）體、電子、醫療（liáo）衛生、儀（yí）器儀表等領域的無氧化幹燥工（gōng）藝中。
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